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高性能 便携式拉曼光谱仪

2020/7/18 12:00:11发布251次查看
  • 品牌:韩国Nanobase公司
  • 型号:24
  • 重量:245

产品信息
高性能 便携式拉曼光谱仪所属类别: » 光谱仪 » 拉曼光谱仪
所属品牌:韩国nanobase公司
产品简介
高性能便携式拉曼光谱仪!
高分辨率!
出色的重复性!
使用全息透射光栅,光透过率高!
可扩展/ 定制!
200µm x 200µm图像快速扫描& 2dmapping!
韩国nanobase公司专业生产高性能拉曼光谱仪,为科学和工业领域提供**性价比解决方案。基于体相位全息光栅,与传统使用反射光栅(czerny-turner)的拉曼光谱仪不同。xperram便携式拉曼光谱仪能在体积小,易于操作的前提下同时还具有出色的光谱分辨率,光透过率高,低偏振相关性和出色的图像质量的特点。
关键词:共焦拉曼成像系统,共聚焦拉曼成像系统,共焦拉曼光谱成像系统,共焦拉曼成像光谱仪系统,拉曼光谱仪,成像光谱仪,激光拉曼成像系统,显微拉曼成像系统
xperramportable便携式拉曼光谱仪
韩国nanobase公司专业生产高性能拉曼光谱仪,为科学和工业领域提供**性价比解决方案。
基于体相位全息光栅,与传统使用反射光栅(czerny-turner)的拉曼光谱仪不同。xperram便携式拉曼光谱仪能在体积小,易于操作的前提下同时还具有出色的光谱分辨率,光透过率高,低偏振相关性和出色的图像质量的特点。
系统概述
非对称前置滤波           对称式光谱仪
性能数据
普通拉曼光谱仪              xperramportable
系统图片
xpe85-nir                    拉曼探针
主要技术参数
对称式光谱仪
xpe85-nir
xpe95-vis
准直器
焦       距
85 mm
95 mm
collimator
f/#
f/1.4
f/2.0
collimator
bbar 涂层
650~1050nm
400~780nm
光栅
线性度
1200 lpmm
1800 lpmm
系统性能
xpe85-nir
xpe95-vis
图像高度
> 3mm
> 3mm
光谱范围
波长
795~1000 nm
540~665 nm
拉曼位移 150~2800 cm-1
190~3750cm-1
色散度和
分辨率
平均
色散
0.22 nm/pixel
0.13 nm/pixel
2.6 cm/pixel 3.5 cm /pixel
半高宽
分辨率
50 um狭缝
7.5 cm-1
11cm-1
100um 狭缝 11.5 cm-1
16cm-1
spectral
coverage
dispersionand
resolutionaverage
dispersion
fwhm
resolution
拉曼探针
光谱范围
150 – 3900cm-1 @785nm
激发波长
780~785nm
工作距离
interchangeable lens
光纤参数
single mm excitation fiber (50~100um)
round bundle mm collection fibers(200/220 μm) using round-to-slitbundle
n.a. 0.22
滤波器参数
excitation path: band passfilter
collection path: long passfilter
optical density 6 at laserwavelength
探针接头
collection path: sma or fc/pcconnector
excitation path: sma or fc/pcconnector
背噪声
<10 count/second @10mw
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faq
什么是vphg(体相位全息光栅)
体相全息volumephase holographic (vph)衍射光栅技术的光谱仪相对于传统的刻划光栅,具有颜色效率高,受偏振影响小的特点,同时牢固耐用,是理想的高端光谱和光通讯仪器。
what are vph diffractiongratings?
the most commonly used gratingsare generally ruled or etched using either a process involving themechanical scratching of the surface of a substrate, or exposure ofa photoresist layer deposited on a substrate.where the interferencepattern produced by two coherent light beams is used to expose thephotoresist. the diffraction gratings produced with this processare often called holographic. both of these processes are used tocreate a fine, periodic relief pattern on the surface of a blanksubstrate. such a relief structure can predictably modify theamplitude and/or phase of the incident light. the superposition ofthe effects of many such grooves allows for the angular separationof the spectral components of the incident light. depending onwhether the light is reflected from the grooved surface, ortransmitted through it, the grating is called either a reflectionor transmission diffraction grating.
a typical vph grating manufactureprocess is illustrated below. a layer of photosensitive gel isenclosed by two substrates. usage of gel between two substratesgives many more degrees of freedom in the spectral response ofthese gratings. the width, shape and depth of the fringes allaffect the grating performance.

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